本設備為通用型的自動真空離子束濺射設備，可對基材進行真空濺射鍍膜，除了濺射金、銀、鉑、鉻、鋁等金屬材料和氧化物，并保證良好粘附性，并能適應每天24小時不間斷的運行方式。
本設備為通用型的自動真空離子束濺射設備，可對基材進行真空濺射鍍膜，除了濺射金、銀、鉑、鉻、鋁等金屬材料和氧化物，并保證良好粘附性，并能適應每天24小時不間斷的運行方式。
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OTKS-1300I磁控濺射鍍膜機 |
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設備型號 |
OTKS-1300I |
空載恢復真空 |
2×10－3Pa≤10min |
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靶源 |
圓靶/矩形靶/柱靶 |
設備電源 |
380V50Hz交流 |
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靶位數(shù) |
3靶自動旋轉(zhuǎn) |
工作托盤調(diào)速 |
轉(zhuǎn)速0～30rpm，徑向跳動<±1mm |
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靶尺寸 |
可選 |
設備壓縮空氣 |
氣壓0.4~0.6MPa |
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靶材尺寸 |
可選 |
高壓力自清洗機 |
轟擊電壓1000-2500V可調(diào)可（選配） |
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工作托盤 |
可選 |
環(huán)境溫度 |
10～35℃ |
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真空室內(nèi)腔尺寸 |
1300*1250（mm） |
相對濕度 |
不大于80% |
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濺射源 |
雙RF電源 |
設備自重 |
約5.0T |
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真空系統(tǒng) |
分子泵+雙極旋轉(zhuǎn)片泵+羅茨泵+POLYCOLD |
控制 |
PLC半自動/全自動 |
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空載極限真空 |
8.0 ×10-5Pa （空載24小時） |
設備冷卻水 |
工業(yè)軟水或循環(huán)水源，使用水壓0.2～0.4Mpa，最高水壓＜0.45 Mpa；水量>20L/min，水溫18-25℃。 |
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靶尺寸，靶位數(shù)，真空室內(nèi)腔尺寸可根據(jù)用于需求配置 |
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聯(lián)系人通訊錄
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蘇州工業(yè)園區(qū)仁愛路99號D115室
