本設備為通用型的自動真空磁控濺射設備，可對基材進行真空濺射鍍膜，除了濺射金、銀、鉑、鉻、鋁等金屬材料和氧化物，并保證良好粘附性，并能適應每天24小時不間斷的運行方式。
|
OTKS-900I磁控濺射鍍膜機 |
|||
|
設備型號 |
OTKS-900I |
空載恢復真空 |
2×10－3Pa≤10min |
|
靶源 |
圓靶/矩形靶/柱靶 |
設備電源 |
380V50Hz交流 |
|
靶位數 |
2-3 |
工作托盤調速 |
轉速0～30rpm，徑向跳動<±1mm |
|
靶尺寸 |
6英寸（可選） |
設備壓縮空氣 |
氣壓0.4~0.6MPa |
|
靶材尺寸 |
φ150mm@6英寸靶 |
高壓力自清洗機 |
轟擊電壓1000-2500V可調可（選配） |
|
工作托盤 |
<φ200mm的圓片 |
環(huán)境溫度 |
10～35℃ |
|
真空室內腔尺寸 |
900*700（mm） |
相對濕度 |
不大于80% |
|
濺射源 |
DC電源/MF電源/RF電源（13.56MHz） |
設備自重 |
約3.0T |
|
真空系統 |
分子泵+雙極旋轉片泵 |
控制 |
PLC半自動/全自動 |
|
空載極限真空 |
8.0 ×10-5Pa （空載24小時） |
設備冷卻水 |
工業(yè)軟水或循環(huán)水源，使用水壓0.2～0.4Mpa，最高水壓＜0.45 Mpa；水量>20L/min，水溫18-25℃。 |
|
靶尺寸，靶位數，真空室內腔尺寸可根據用于需求配置 |
|||
聯系人通訊錄
返回
蘇州工業(yè)園區(qū)仁愛路99號D115室
