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本設備為通用標準型蒸發(fā)式光學真空鍍膜設備，加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來，可對基材進行真空鍍膜，支持光學、半導體工藝教學和科研過程。設備構合理、抽速大、工作周期短、生產(chǎn)效率高、操作方便，能耗低、工作穩(wěn)定，且膜層均勻、成膜質量好等優(yōu)點。主要用于各類AR膜、AF膜、冷光膜、濾光片、高反膜、ITO透明導電材膜等鍍制。