歐泰克L-385-PE25投影掩膜光刻機(jī)系統(tǒng)，專為微米級圖案制作而設(shè)計(jì)。
歐泰克L-385-PE25投影掩膜光刻機(jī)系統(tǒng)，專為微米級圖案制作而設(shè)計(jì)。
設(shè)備采用TI .47’’ 4K DLP紫外光學(xué)引擎，輸出圖像物理分辨可達(dá)到3840×2160?？蓪?shí)現(xiàn)針對預(yù)設(shè)圖案無需制作掩模版，快速投影實(shí)現(xiàn)精度20um的無掩膜套刻。也可以通過物理掩膜實(shí)現(xiàn)2um精度光刻。曝光全過程可全程視頻監(jiān)測跟隨，并配備電子測量系統(tǒng)，可實(shí)時(shí)測量結(jié)構(gòu)尺寸。
該光刻機(jī)廣泛適用于微流控芯片、MEMS器件、光電子器件以及聲表面波器件等制備領(lǐng)域。其性能尤其適合高校、科研院所以及企業(yè)展開微細(xì)加工工藝研究。
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OTKL-385-PE25投影掩膜光刻系統(tǒng) |
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掩膜方式 |
投影 |
監(jiān)測系統(tǒng)像素 |
3800萬 |
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曝光光源 |
紫外LED |
監(jiān)測系統(tǒng)電子變倍 |
33-270倍 |
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光源波長 |
385nm/405nm |
自然補(bǔ)光系統(tǒng) |
黃光 |
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曝光面積 |
96mm×54mm |
功率 |
500W |
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曝光方式 |
單面接觸式定時(shí)曝光 |
操作系統(tǒng) |
Win10 |
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曝光分辨率 |
20um(無掩膜套刻) 2um(掩膜) |
工作環(huán)境 |
溫度0℃-40 ℃，相對濕度＜80 % |
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曝光強(qiáng)度 |
44mW/cm2可調(diào) |
電源輸入 |
AC220V±10V，50HZ |
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曝光不均勻性 |
≤5% |
尺寸 |
1200×750×2000mm |
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圖像畸變 |
0.1% |
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圖像物理分辨率 |
3840×2160 |
重量 |
50kg |
聯(lián)系人通訊錄
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