本設(shè)備為針對(duì)教學(xué),科研驗(yàn)證而設(shè)計(jì)的小型蒸發(fā)式光學(xué)真空鍍膜設(shè)備,加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái),可對(duì)基材進(jìn)行真空鍍膜,支持光學(xué)、半導(dǎo)體工藝教學(xué)和科研過(guò)程。設(shè)備構(gòu)合理、抽速大、工作周期短、生產(chǎn)效率高、操作方便,能耗低、工作穩(wěn)定,且膜層均勻、成膜質(zhì)量好等優(yōu)點(diǎn)。主要用于各類(lèi)AR膜、AF膜、冷光膜、濾光片、高反膜、ITO透明導(dǎo)電材膜等鍍制。
OTKO-700E蒸發(fā)式鍍膜機(jī) |
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設(shè)備型號(hào) |
OTKO-700E |
真空系統(tǒng) |
冷泵+雙級(jí)旋片泵+羅茨泵 |
真空室內(nèi)腔尺寸 |
700*1000(mm) |
蒸發(fā)源 |
雙槍+固定阻蒸 |
晶控 |
MXC-3B+6探頭 |
空載恢復(fù)真空 |
2.0 ×10-3Pa <15min |
空載極限真空 |
8.0 ×10-5Pa (空載24小時(shí)) |
選件 |
離子源、POLYCOLD |
加熱溫度 |
<300℃ |
設(shè)備自重 |
2T |
設(shè)備電源 |
380V50Hz交流 |
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真空室內(nèi)腔尺寸、泵組可以可根據(jù)用于需求配置 |
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