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OTKS-400E磁控濺射鍍膜機-科研磁控濺射鍍膜機-歐泰克測控技術(shù)(蘇州)有限公司
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    OTKS-400E磁控濺射鍍膜機

    本設(shè)備為針對教學(xué),科研驗證而設(shè)計的自動真空磁控濺射設(shè)備,可對基材進行真空濺射鍍膜,除了濺射金、銀、鉑等高價格材料,還可以濺射鉻、鋁等低價值金屬材料,并保證良好粘附性,從而控制成本,支持半導(dǎo)體工藝教學(xué)和科研過程。

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    產(chǎn)品詳情

    本設(shè)備為針對教學(xué),科研驗證而設(shè)計的自動真空磁控濺射設(shè)備,可對基材進行真空濺射鍍膜,除了濺射金、銀、鉑等高價格材料,還可以濺射鉻、鋁等低價值金屬材料,并保證良好粘附性,從而控制成本,支持半導(dǎo)體工藝教學(xué)和科研過程。

    OTKS-400E磁控濺射鍍膜機

    設(shè)備型號

    OTKS-400E

    空載恢復(fù)真空

    大氣至3×103Pa≤20min

    靶源

    圓靶、矩形靶

    設(shè)備電源

    380V50Hz交流

    靶位數(shù)

    1-3

    工作托盤調(diào)速

    轉(zhuǎn)速030rpm,徑向跳動<±1mm

    靶尺寸

    2-4英寸(可選)

    設(shè)備壓縮空氣

    氣壓0.4~0.6MPa

    靶材尺寸

    φ50mm@2英寸靶

    高壓力自清洗機

    轟擊電壓1000-2500V可調(diào)可(選配)

    工作托盤

    <φ80mm的圓片

    環(huán)境溫度

    1035℃

    真空室內(nèi)腔尺寸

    400*350mm

    相對濕度

    不大于80%

    電源

    DC 1KW

    設(shè)備自重

    1.0T

    真空系統(tǒng)

    分子泵

    控制

    PLC半自動/全自動

    空載極限真空

    2.0 ×10-4Pa  (空載24小時)

    設(shè)備冷卻水

    工業(yè)軟水或循環(huán)水源,使用水壓0.20.3Mpa,最高水壓<0.45 Mpa;水量>20L/min,水溫18-25℃。

    靶尺寸,靶位數(shù),真空室內(nèi)腔尺寸可根據(jù)用于需求配置

    沒有了
    沒有了
    在線客服系統(tǒng)