本設(shè)備為針對教學(xué),科研驗證而設(shè)計的自動真空磁控濺射設(shè)備,可對基材進行真空濺射鍍膜,除了濺射金、銀、鉑等高價格材料,還可以濺射鉻、鋁等低價值金屬材料,并保證良好粘附性,從而控制成本,支持半導(dǎo)體工藝教學(xué)和科研過程。
本設(shè)備為針對教學(xué),科研驗證而設(shè)計的自動真空磁控濺射設(shè)備,可對基材進行真空濺射鍍膜,除了濺射金、銀、鉑等高價格材料,還可以濺射鉻、鋁等低價值金屬材料,并保證良好粘附性,從而控制成本,支持半導(dǎo)體工藝教學(xué)和科研過程。
OTKS-400E磁控濺射鍍膜機 |
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設(shè)備型號 |
OTKS-400E |
空載恢復(fù)真空 |
大氣至3×10-3Pa≤20min |
靶源 |
圓靶、矩形靶 |
設(shè)備電源 |
380V50Hz交流 |
靶位數(shù) |
1-3 |
工作托盤調(diào)速 |
轉(zhuǎn)速0~30rpm,徑向跳動<±1mm |
靶尺寸 |
2-4英寸(可選) |
設(shè)備壓縮空氣 |
氣壓0.4~0.6MPa |
靶材尺寸 |
φ50mm@2英寸靶 |
高壓力自清洗機 |
轟擊電壓1000-2500V可調(diào)可(選配) |
工作托盤 |
<φ80mm的圓片 |
環(huán)境溫度 |
10~35℃ |
真空室內(nèi)腔尺寸 |
400*350(mm) |
相對濕度 |
不大于80% |
電源 |
DC 1KW |
設(shè)備自重 |
約1.0T |
真空系統(tǒng) |
分子泵 |
控制 |
PLC半自動/全自動 |
空載極限真空 |
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靶尺寸,靶位數(shù),真空室內(nèi)腔尺寸可根據(jù)用于需求配置 |